X射線(xiàn)熒光光譜法測試會(huì )受哪方面的影響嗎？，首先，被測樣品與標準物質(zhì)所含元素組成和含量有較大差異，被測樣品表面有鍍層或經(jīng)化學(xué)處理，測量時(shí)間,樣品的形狀,樣品測量的面積。制樣的好壞、標準曲線(xiàn)、參照標準、軟件補償、X射線(xiàn)熒光光譜儀種類(lèi)：波長(cháng)或能量或全反射類(lèi)型等。還有溫度、濕度等自然因素

材質(zhì)必須均勻。你的待測元素不均勻的話(huà)，多的地方和少的地方差別會(huì )較大。因為XRF光譜儀入射光線(xiàn)一般較窄，直徑1-5微米，也就是說(shuō)照射到樣品的區域會(huì )很小，所以不均勻樣品檢測會(huì )不準確，當然主要也是看不均勻程度。
你的交錯規律排列指的什么？如果是一層高分子，一層無(wú)機物，在一層高分子一層無(wú)機物，并且每層的厚度一定（比如第一層高分子都是10微米厚）。這樣的可以在一定程度上看成是均勻的，但是用X熒光光譜儀測量還是有問(wèn)題，因為X熒光透過(guò)不同物質(zhì)有無(wú)限厚（某元素的X熒光透射不出來(lái)的厚度，原因是自吸收）的問(wèn)題。這樣誤差看你每層的厚度了，如果每層都很薄，比如幾個(gè)微米那么影響會(huì )較小。如果每一層達到幾十比如50微米以上，那么影響就會(huì )較大